TAILIEUCHUNG - Biosensors Emerging Materials and Applications Part 8

Tham khảo tài liệu 'biosensors emerging materials and applications part 8', kỹ thuật - công nghệ, cơ khí - chế tạo máy phục vụ nhu cầu học tập, nghiên cứu và làm việc hiệu quả | 272 Biosensors - Emerging Materials and Applications Fig. 3. a Schematic view of the anodization cell used to prepare the PSi samples and b SEM picture showing an example of PSi multilayer. Porous silicon patterning After fabrication of the PSi layers the next step in biosensor realization is PSi patterning to build the PC devices. The challenge here consists in deeply patterning a material that is itself nanostructured anisotropic and highly insulating at a submicron scale. The desired air slits should have perfectly vertical walls a typical width of 200 to 400 nm a period below 1 pm and an aspect ratio - . depth width ratio - of 2 to 4. Different ways have been explored to obtain patterns in PSi at a submicron scale. Among them photo-dissolution appears to be a promising technique which uses holographic setups to create light patterns into the material and locally dissolve the material Lerondel et al. 1997 . Similarly photo-oxidation has also been proposed as an alternative to locally oxidize and selectively etch patterns into PSi layers Park et al. 2008 . Different nanoimprint techniques have also been proposed such as soft lithography where PSi is put in contact with a polymer stamp and selectively detached from the substrate Sirbuly et al. 2003 . Very recently patterning of PSi layers via nanoimprint using silicon stamps has been proposed Ryckman et al. 2010 . This technique allows for the realization of very well defined gratings however the PSi inside the patterns might get damaged. The pattern aspect ratio that can be reached using imprinting techniques is also quite limited. In order to reach the desired depth required for our PC devices a patterning process based on electron-beam lithography and reactive ion etching RIE has been selected. Very few reports on PSi patterning using dry etching techniques can be found in literature. The processes proposed are based on fluorine Arens-Fischer et al. 2000 Tserepi et al. 2003 or chlorine plasmas Meade .

TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.