TAILIEUCHUNG - A Technique For Fabricating Modern Athletic Mouthguards

The term “CMOS MEMS” most often describes pro- cesses that create microstructures directly out of the metal/ dielectric interconnect stack in foundry CMOS. The metal- lization and dielectric layers, normally used for electrical interconnect, now serve a dual function as structural layers. For example, the suspended n-well of Figure 3(d) is consid- ered CMOS MEMS, since its beam suspension is made from the CMOS interconnect stack. There is significant motivation for making MEMS out of CMOS. Leveraging foundry CMOS for MEMS is fast, reliable, repeatable, and economical. Electronics can be placed directly next to microstructures, enabling arrayed systems on chip. In CMOS MEMS, multiple conductors can be placed inside of the microstructures,.

TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.