TAILIEUCHUNG - Plastics Technology Handbook 2011 Part 4

Tham khảo tài liệu 'plastics technology handbook 2011 part 4', kỹ thuật - công nghệ, cơ khí - chế tạo máy phục vụ nhu cầu học tập, nghiên cứu và làm việc hiệu quả | 1-74 Plastics Technology Handbook H H H H Illi C C C C------------ aldehyde ketone acid or alcohol I I O H I O I H Ozone provides a very reactive source of oxygen because it breaks down to an oxygen molecule and a single reactive oxygen. O3 O2 C O The temperature resistance of various plastics in air has been summarized in Figure and Table . Polymers containing hydrolysable groups or which have hydrolysable groups introduced by oxidation are susceptible to water attack. Hydrolyzable groups such as esters amides nitriles acetals and certain ketones can react with water and cause deterioration of the polymer. The dielectric constant power factor insulation resistance and water absorption are most affected by hydrolysis. For polyesters polyamides cellulose and cellulose either and esters the hydrolysable groups are weak links in the chain and hydrolysis of such polymers can cause serious loss of strength. A summary of water absorption characteristics of common plastic and rubbers is presented in Table . Degradation by Radiation It was mentioned earlier that radiation may cause both cross-linking or degradation. Which predominates depends on radiation dosage polymer structure and temperature Ultraviolet UV light causes 1 1-disubstituted vinyl polymers to degrade almost exclusively to monomer at elevated temperatures Whereas cross-linking and chain scission reaction predominate at room temperature. Other vinyl polymers undergo cross-linking primarily regardless of temperature. Irradiation with a beam of x-rays g-rays or electrons leads to much higher yields of monomer from 1 1-disubstituted polymers at room temperature. This phenomenon is used advantageously for microetching of resist coatings with electron beams in the preparation of integrated circuits. The process works on the principle that a silicon chip surface will be exposed if an electron beam depolymerizes the protective resin resist coating that covers the surface. The exposed .

TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.