TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: " Eighth International Workshop on Epitaxial Semiconductors on Patterned Substrates and Novel Index Surfaces"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: Eighth International Workshop on Epitaxial Semiconductors on Patterned Substrates and Novel Index Surfaces | Nanoscale Res Lett 2010 5 1863-1864 DOI s11671-010-9819-3 SPECIAL ISSUE ARTICLE Eighth International Workshop on Epitaxial Semiconductors on Patterned Substrates and Novel Index Surfaces Stefano Sanguinetti Published online 9 November 2010 The Author s 2010. This article is published with open access at This year Italy hosted the VIIIESPS-NIS workshop. It was organized by the L-NESS Inter-University Laboratory Politecnico di Milano and Universita di Milano Bicocca in Como Italy under the auspices of Prof. Leo Miglio. The program of 10 invited speakers 30 contributed and numerous posters covered a wide range of topics all connected with the study of substrate patterning and high index substrate influence on the growth and the control of semiconductor nanostructures. Presentation was given on novel patterning techniques both top-down and bottom-up and the effect of patterning on self-organized dots and wires. In particular wires have recently attracted a wide attention since they are important both in fundamental physics and in advanced electronics and photonics applications. New concept bottom-up patterning techniques like metallic droplet nano-drilling and droplet epitaxy local artificial substrates were presented. Epitaxy of graphene on patterned substrates was also a topic of the workshop. The possibility of controlling by substrate patterning the nucleation site and the strain relaxation of self-organized Stranski-Krastanow dots in Ge Si and InAs GaAs systems has motivated a strong effort as evidenced by the number and the quality of the contribution presented. Some very interesting features involve strain engineering position and size control defectivity reduction. In addition S. Sanguinetti Dipartimento di Scienza dei Materiali Universita di Milano Bicocca Milan Italy e-mail patterned substrates epitaxy inevitably involves growth on high index planes which stimulated the understanding the effects of .

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.