TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: " Patterned growth of InGaN/GaN quantum wells on freestanding GaN grating by molecular beam epitaxy"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: Patterned growth of InGaN/GaN quantum wells on freestanding GaN grating by molecular beam epitaxy | Wang et al. Nanoscale Research Letters 2011 6 117 http content 6 1 117 o Nanoscale Research Letters a SpringerOpen Journal NANO EXPRESS Open Access Patterned growth of InGaN GaN quantum wells on freestanding GaN grating by molecular beam epitaxy Yongjin Wang Fangren Hu Kazuhiro Hane Abstract We report here the epitaxial growth of InGaN GaN quantum wells on freestanding GaN gratings by molecular beam epitaxy MBE . Various GaN gratings are defined by electron beam lithography and realized on GaN-on-silicon substrate by fast atom beam etching. Silicon substrate beneath GaN grating region is removed from the backside to form freestanding GaN gratings and the patterned growth is subsequently performed on the prepared GaN template by MBE. The selective growth takes place with the assistance of nanoscale GaN gratings and depends on the grating period P and the grating width W. Importantly coalescences between two side facets are realized to generate epitaxial gratings with triangular section. Thin epitaxial gratings produce the promising photoluminescence performance. This work provides a feasible way for further GaN-based integrated optics devices by a combination of GaN micromachining and epitaxial growth on a GaN-on-silicon substrate. pAcs . Introduction It s of significant interest to conduct the fundamental research as well as the applied study on the epitaxial growth on patterned GaN-on-silicon substrate 1-9 . Commercial GaN-on-silicon substrates make this research feasible 10 and novel epitaxial structures can be generated with smooth facets and are free of etching damage. It can also provide a great potential for further integrated GaN optics devices by a combination of the epitaxial growth etching of GaN and silicon micromachining. Compared to other growth techniques the selective growth of GaN by molecular beam epitaxy MBE is relative difficult 11 12 . The substrate also impacts on the epitaxial growth. As the .

• Báo cáo khoa học
• báo cáo khoa học
• báo cáo hóa học
• công trình nghiên cứu về hóa học
• tài liệu về hóa học
• cách trình bày báo cáo
• trình bày báo cáo
• tài liệu báo cáo khoa học
• cách trình bày báo cáo khoa học
• báo cáo khoa học sinh học
• báo cáo khoa học toán học
• luận văn mẫu
• người lính việt nam
• sau chiến tranh
• tuyển tập báo cáo khoa học
• báo cáo ngành triết học
• báo cáo ngành lịch sử
• báo cáo ngành văn học
• nghiên cứu khoa học
• báo cáo về văn học
• báo cáo triết học
• báo cáo văn học
• chuyên đề văn học
• văn học nghệ thuật
• văn học Việt NAm
• báo cáo ngành toán học
• báo cáo ngành vật lý
• báo cáo ngành chăn nuôi
• văn học Trung Hoa
• báo cáo khoa học kinh tế
• Kỷ yếu tóm tắt báo cáo khoa học
• Báo cáo khoa học y học
• Báo cáo y học
• Hội nghị khoa học tim mạch
• Báo cáo khoa học y khoa
• Tăng huyết áp
• báo cáo sinh học
• bảo tồn nguồn gen
• báo cáo ngành kỹ thuật
• Báo cáo quản lý chất thải sinh hoạt
• Báo cáo khoa học môi trường
• Báo cáo khoa học công nghệ
• Nghiên cứu khoa học về môi trường
• Đề tài nghiên cứu khoa học
• Báo cáo nghiên cứu khoa học