TAILIEUCHUNG - báo cáo hóa học: " Polystyrene negative resist for high-resolution electron beam lithography"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: Polystyrene negative resist for high-resolution electron beam lithography | Ma et al. Nanoscale Research Letters 2011 6 446 http content 6 1 446 o Nanoscale Research Letters a SpringerOpen Journal NANO EXPRESS Open Access Polystyrene negative resist for high-resolution electron beam lithography Siqi Ma Celal Con Mustafa Yavuz and Bo Cui Abstract We studied the exposure behavior of low molecular weight polystyrene as a negative tone electron beam lithography EBL resist with the goal of finding the ultimate achievable resolution. It demonstrated fairly well-defined patterning of a 20-nm period line array and a 15-nm period dot array which are the densest patterns ever achieved using organic EBL resists. Such dense patterns can be achieved both at 20 and 5 keV beam energies using different developers. In addition to its ultra-high resolution capability polystyrene is a simple and low-cost resist with easy process control and practically unlimited shelf life. It is also considerably more resistant to dry etching than PMMA. With a low sensitivity it would find applications where negative resist is desired and throughput is not a major concern. 1. Introduction Electron beam lithography EBL 1 focused ion beam FIB lithography 2 and nanoimprint lithography NIL 3 are currently the three most widely employed nanolithography techniques. Among them EBL is undoubtedly the most popular for R D. Unlike NIL EBL can generate arbitrary patterns without the need of fabricating a mold first. Though not as versatile as FIB which can do both lithography using a resist and milling EBL is capable of exposing thick 100 nm resist without ion contamination to the resist. In addition it is faster than FIB exposure since the electron beam can remain well-focused below 10-nm beam size even with nA beam current as is needed for fast writing. In recent years one main trend in EBL development is the effort being made toward ultra-high resolution and pattern density with the record pattern density of 9-nm period line arrays 4 . Desirable properties

• Báo cáo khoa học
• báo cáo khoa học
• báo cáo hóa học
• công trình nghiên cứu về hóa học
• tài liệu về hóa học
• cách trình bày báo cáo
• trình bày báo cáo
• tài liệu báo cáo khoa học
• cách trình bày báo cáo khoa học
• báo cáo khoa học sinh học
• báo cáo khoa học toán học
• luận văn mẫu
• người lính việt nam
• sau chiến tranh
• tuyển tập báo cáo khoa học
• báo cáo ngành triết học
• báo cáo ngành lịch sử
• báo cáo ngành văn học
• nghiên cứu khoa học
• báo cáo về văn học
• báo cáo triết học
• báo cáo văn học
• chuyên đề văn học
• văn học nghệ thuật
• văn học Việt NAm
• báo cáo ngành toán học
• báo cáo ngành vật lý
• báo cáo ngành chăn nuôi
• văn học Trung Hoa
• báo cáo khoa học kinh tế
• Kỷ yếu tóm tắt báo cáo khoa học
• Báo cáo khoa học y học
• Báo cáo y học
• Hội nghị khoa học tim mạch
• Báo cáo khoa học y khoa
• Tăng huyết áp
• báo cáo sinh học
• bảo tồn nguồn gen
• báo cáo ngành kỹ thuật
• Báo cáo quản lý chất thải sinh hoạt
• Báo cáo khoa học môi trường
• Báo cáo khoa học công nghệ
• Nghiên cứu khoa học về môi trường
• Đề tài nghiên cứu khoa học
• Báo cáo nghiên cứu khoa học