TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: "Nanopatterning on silicon surface using atomic force microscopy with diamond-like carbon (DLC)-coated Si probe"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: Nanopatterning on silicon surface using atomic force microscopy with diamond-like carbon (DLC)-coated Si probe | Jiang et al. Nanoscale Research Letters 2011 6 518 http content 6 1 518 o Nanoscale Research Letters a SpringerOpen Journal NANO EXPRESS Open Access Nanopatterning on silicon surface using atomic force microscopy with diamond-like carbon DLC -coated Si probe Xiaohong Jiang 1 Guoyun Wu1 Jingfang Zhou2 Shujie Wang1 Ampere A Tseng3 and Zuliang Du1 Abstract Atomic force microscope AFM equipped with diamond-like carbon DLC -coated Si probe has been used for scratch nanolithography on Si surfaces. The effect of scratch direction applied tip force scratch speed and number of scratches on the size of the scratched geometry has been investigated. The size of the groove differs with scratch direction which increases with the applied tip force and number of scratches but decreases slightly with scratch speed. Complex nanostructures of arrays of parallel lines and square arrays are further fabricated uniformly and precisely on Si substrates at relatively high scratch speed. DLC-coated Si probe has the potential to be an alternative in AFM-based scratch nanofabrication on hard surfaces. Introduction Nanolithography is crucial to realize a size below 100 nm for nanoelectronic devices and high density recording systems 1 2 . Apart from conventional expensive optical and electron beam lithography 1 2 scanning probe microscopy SPM especially scanning tunneling microcopy STM and atomic force microscopy AFM -based nanofabrication technique have been intensively studied. To date several SPM-based nanolithography techniques have been developed including local oxidation of the surfaces of silicon and metals 3-5 dip-pen method 6 7 thermal-mechanical writing 2 8 and mechanical electrochemical modification of a material s surface 9-11 . In recent years although the uncertainty drift hysteresis creep for AFM will limit its application in nanostructure fabrication at large scale AFM-based scratch nanolithography has emerged as a promising technique for .

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.