TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: " 3D Simulation of Nano-Imprint Lithography"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: 3D Simulation of Nano-Imprint Lithography | Nanoscale Res Lett 2010 5 274-278 DOI S11671-009-9475-7 NANO EXPRESS 3D Simulation of Nano-Imprint Lithography Jose Manuel Roman Marin Henrik Koblitz Rasmussen Ole Hassager Received 10 March 2009 Accepted 27 October 2009 Published online 13 November 2009 to the authors 2009 Abstract A proof of concept study of the feasibility of fully three-dimensional 3D time-dependent simulation of nano-imprint lithography of polymer melt where the polymer is treated as a structured liquid has been presented. Considering the flow physics of the polymer as a structured liquid we have followed the line initiated by de Gennes using a Molecular Stress Function model of the Doi and Edwards type. We have used a 3D Lagrangian Galerkin finite element methods implemented on a parallel computer architecture. In a Lagrangian techniques the node point follows the particle movement allowing for the movement of free surfaces or interfaces. We have extended the method to handle the dynamic movement of the contact line between the polymer melt and stamp during mold filling. Keywords NIL Nano-imprint Finite element Lagrangian Viscoelastic MSF Introduction In the recent years a considerable effort has been made in the development of polymer-based micro- and nano-fabrication techniques for applications in micro-electromechanical systems MEMS . Techniques such as electron beam lithography EBL and atomic force microscopy J. M. R. Marin H. K. Rasmussen El Department of Mechanical Engineering Technical University of Denmark 2800 Lyngby Denmark e-mail hkra@ O. Hassager Department of Chemical and Biochemical Engineering Technical University of Denmark 2800 Lyngby Denmark lithography AFML have proven successful in transferring nano-patterns with line width of the order of few tenths of nanometers. However the cost and the deficient processability for mass production have caused the emergence of promising techniques that can retain or improve the resolution of EBL and AFML and circumvent

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.