TAILIEUCHUNG - Luận văn Thạc sĩ Khoa học: Chế tạo màng mỏng Si3Nn4, SiO2 và màng treo Si3N4 bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma

Luận văn đã giới thiệu cấu trúc, tính chất và ứng dụng của màng mỏng Si3N4 và SiO2 cũng như màng treo Si3N4. Trình bày một số phương pháp chế tạo màng mỏng và màng treo đang được nghiên cứu. Thực nghiệm và các phương pháp nghiên cứu. Giới thiệu tổng quan về thiết bị sử dụng và trình bày quá trình chế tạo màng mỏng Si3N4 và SiO2, màng treo Si3N4 theo phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma. |

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.