TAILIEUCHUNG - Quang khắc

Tài liệu tham khảo Quang khắc và Kỹ thuật quang khắc (photolithography ). | Quang khắc Kỹ thuật quang khắc (photolithography ) Ứng dụng: Chế tạo vật liệu Linh kiện (MEMS) kích thước nhỏ (micrô) Vi mạch điện tử với hình dạng xác định Nguyên lý hoạt động: Sử dụng bức xạ ánh sáng làm biến đổi các chất cảm quang phủ trên bề mặt để tạo ra hình ảnh cần tạo Photolithography PR: photoresist Thuốc hiện: Developer Nước khử Ion: DI Water Các hóa chất ăn mòn: NaOH; KOH: HNO3; HF Phòng sạch: Cleaning Room - What???????? Quang khắc âm và dương Thiết bị quang khắc Kỹ Thuật So Mask (Mask Alignment) Cấu tạo hệ quang khắc Nguồn phát tia tử ngoại Bộ khuyếch đại chùm tia tử ngoại Mặt nạ (photomask). Mặt nạ là một tấm chắn sáng được in trên đó các chi tiết cần tạo Thấu kính hội tụ để hội tụ chùm ánh sáng đi ra từ mặt nạ chiếu vào bề mặt phiến cần tạo Đế là phiến Si đã phủ các lớp vật liệu và một lớp cảm quang. Một số thuật ngữ Mặt nạ: là một tấm thủy tinh có hình ảnh. Hình ảnh được tạo bằng cách ăn mòn có chọn lọc lớp crom mỏng (khoảng 70 nm) phủ trên tấm thủy tinh tạo vùng tối

TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.