Đang chuẩn bị nút TẢI XUỐNG, xin hãy chờ
Tải xuống
Tài liệu tham khảo Quang khắc và Kỹ thuật quang khắc (photolithography ). | Quang khắc Kỹ thuật quang khắc (photolithography ) Ứng dụng: Chế tạo vật liệu Linh kiện (MEMS) kích thước nhỏ (micrô) Vi mạch điện tử với hình dạng xác định Nguyên lý hoạt động: Sử dụng bức xạ ánh sáng làm biến đổi các chất cảm quang phủ trên bề mặt để tạo ra hình ảnh cần tạo Photolithography PR: photoresist Thuốc hiện: Developer Nước khử Ion: DI Water Các hóa chất ăn mòn: NaOH; KOH: HNO3; HF Phòng sạch: Cleaning Room - What???????? Quang khắc âm và dương Thiết bị quang khắc Kỹ Thuật So Mask (Mask Alignment) Cấu tạo hệ quang khắc Nguồn phát tia tử ngoại Bộ khuyếch đại chùm tia tử ngoại Mặt nạ (photomask). Mặt nạ là một tấm chắn sáng được in trên đó các chi tiết cần tạo Thấu kính hội tụ để hội tụ chùm ánh sáng đi ra từ mặt nạ chiếu vào bề mặt phiến cần tạo Đế là phiến Si đã phủ các lớp vật liệu và một lớp cảm quang. Một số thuật ngữ Mặt nạ: là một tấm thủy tinh có hình ảnh. Hình ảnh được tạo bằng cách ăn mòn có chọn lọc lớp crom mỏng (khoảng 70 nm) phủ trên tấm thủy tinh tạo vùng tối | Quang khắc Kỹ thuật quang khắc (photolithography ) Ứng dụng: Chế tạo vật liệu Linh kiện (MEMS) kích thước nhỏ (micrô) Vi mạch điện tử với hình dạng xác định Nguyên lý hoạt động: Sử dụng bức xạ ánh sáng làm biến đổi các chất cảm quang phủ trên bề mặt để tạo ra hình ảnh cần tạo Photolithography PR: photoresist Thuốc hiện: Developer Nước khử Ion: DI Water Các hóa chất ăn mòn: NaOH; KOH: HNO3; HF Phòng sạch: Cleaning Room - What???????? Quang khắc âm và dương Thiết bị quang khắc Kỹ Thuật So Mask (Mask Alignment) Cấu tạo hệ quang khắc Nguồn phát tia tử ngoại Bộ khuyếch đại chùm tia tử ngoại Mặt nạ (photomask). Mặt nạ là một tấm chắn sáng được in trên đó các chi tiết cần tạo Thấu kính hội tụ để hội tụ chùm ánh sáng đi ra từ mặt nạ chiếu vào bề mặt phiến cần tạo Đế là phiến Si đã phủ các lớp vật liệu và một lớp cảm quang. Một số thuật ngữ Mặt nạ: là một tấm thủy tinh có hình ảnh. Hình ảnh được tạo bằng cách ăn mòn có chọn lọc lớp crom mỏng (khoảng 70 nm) phủ trên tấm thủy tinh tạo vùng tối và vùng sáng. Khi chiếu ánh sáng qua chỗ nào không có crom thì cho ánh sáng đi qua, chỗ nào có crom sẽ cản ánh sáng. Lớp cảm quang: là các chất hữu cơ bị rửa trôi hoặc ăn mòn dưới các dung dịch tráng rửa Cản quang dương: Là cản quang có tính chất biến đổi sau khi ánh sáng chiếu vào sẽ bị hòa tan trong các dung dịch tráng rửa. Cản quang âm: Là cản quang có tính chất biến đổi sau khi ánh sáng chiếu vào thì không bị hòa tan trong các dung dịch tráng rửa. Dung dịch tráng rửa: Dung môi hữu cơ có khả năng hòa tan vật liệu cảm quang Cr Qui trình Quang khắc Xử lý bề mặt của đế Phủ chất cản quang (photoresist) bằng kỹ thuật quay phủ (spin-coating). Chiếu chùm AS qua mặt nạ chắn sáng, chùm tia sẽ hội tụ in trên đế đã phủ cản quang tạo ra hình ảnh của chi tiết cần tạo. Chỉ có vùng cảm quang dương được chiếu sáng sẽ bị thay đổi tính chất => bị hòa tan trong dung dịch tráng rửa. Tráng rửa loại bỏ vùng cản quang đã bị chiếu sáng tạo ra hình dáng theo mặt nạ chắn sáng Phủ các lớp vật liệu cần tạo lên
