TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: " Thickness-dependent optimization of Er3+ light emission from silicon-rich silicon oxide thin films"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: Thickness-dependent optimization of Er3+ light emission from silicon-rich silicon oxide thin films | Cueff et al. Nanoscale Research Letters 2011 6 395 http content 6 1 395 o Nanoscale Research Letters a SpringerOpen Journal NANO EXPRESS Open Access Thickness-dependent optimization of Er3 light emission from silicon-rich silicon oxide thin films 1 1 22 1 1 Sébastien Cueff Christophe Labbé Olivier Jambois Blas Garrido Xavier Portier and Richard Rizk Abstract This study investigates the influence of the film thickness on the silicon-excess-mediated sensitization of Erbium ions in Si-rich silica. The Er3 photoluminescence at pm normalized to the film thickness was found five times larger for films 1 pm-thick than that from 50-nm-thick films intended for electrically driven devices. The origin of this difference is shared by changes in the local density of optical states and depth-dependent interferences and by limited formation of Si-based sensitizers in thin films probably because of the prevailing high stress. More Si excess has significantly increased the emission from thin films up to ten times. This paves the way to the realization of highly efficient electrically excited devices. Background The realization of efficient Si-based optical emitters for photonics is one of the most challenging objectives for the semiconductor community 1 . Such a purpose is confronted to the indirect band gap of bulk silicon which makes difficult the light emission from Si and then presents a major obstacle to full photonic-electronic integration. However the indirect sensitization of emission from erbium ions via Si nanoclusters Si-nc in the technologically important spectral region is a promising approach that has received significant attention. Such a sensitizing effect of Si-ncs increases the effective excitation cross section of Er by 103-104 over a broad band in Si-rich silicon oxide SRSO systems 2 . This leads to the observation of enhanced Er photoluminescence PL and electroluminescence in the standard telecommunications wavelength band .

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.