TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: " A Novel Method to Fabricate Silicon Nanowire p–n Junctions by a Combination of Ion Implantation and in-situ Doping"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: A Novel Method to Fabricate Silicon Nanowire p–n Junctions by a Combination of Ion Implantation and in-situ Doping | Nanoscale Res Lett 2010 5 243-246 DOI s11671-009-9472-x NANO EXPRESS A Novel Method to Fabricate Silicon Nanowire p-n Junctions by a Combination of Ion Implantation and in-situ Doping Pratyush Das Kanungo Reinhard Kogler Peter Werner Ulrich Gosele Wolfgang Skorupa Received 9 October 2009 Accepted 14 October 2009 Published online 8 November 2009 to the authors 2009 Abstract We demonstrate a novel method to fabricate an axial p-n junction inside 111 oriented short vertical silicon nanowires grown by molecular beam epitaxy by combining ion implantation with in-situ doping. The lower halves of the nanowires were doped in-situ with boron concentration 1018 cm-3 while the upper halves were doubly implanted with phosphorus to yield a uniform concentration of 2 X 1019 cm-3. Electrical measurements of individually contacted nanowires showed excellent diode characteristics and ideality factors close to 2. We think that this value of ideality factors arises out of a high rate of carrier recombination through surface states in the native oxide covering the nanowires. Keywords Nanowire p-n Junction Ion implantation In-situ doping Electrical properties Introduction In order to make use of silicon nanowires Si NWs 1 in nano-devices selective doping to form p-n junctions or p and n wells is a necessity. Till date a host of devices with selectively doped Si NWs have been demonstrated 1 2 . Out of them axial p-n 3 and p-n-i 4 junction in Si NWs have shown the potential to be used as solar cells . However axial p-n junctions in NWs grown by the vapor- P. D. Kanungo El P. Werner U. Gosele Max Planck Institute of Microstructure Physics Weinberg 2 06120 Halle Germany e-mail kanungo@ R. Kogler W. Skorupa Forschungszentrum Dresden Rossendorf FWIM 01314 Dresden Germany liquid-solid VLS technique have mostly been fabricated by purely in-situ doping 3 5 6 . It has been observed that a pure in-situ doping to fabricate an axial junction may result in unwanted lateral doping

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.