TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: " Multidimensional characterization, Landau levels and Density of States in epitaxial graphene grown on SiC substrates"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: Multidimensional characterization, Landau levels and Density of States in epitaxial graphene grown on SiC substrates | Camara et al. Nanoscale Research Letters 2011 6 141 http content 6 1 141 o Nanoscale Research Letters a SpringerOpen Journal NANO EXPRESS Open Access Multidimensional characterization Landau levels and Density of States in epitaxial graphene grown on SiC substrates 1 1 1 2 1 1 Nicolas Camara Benoit Jouault Bilal Jabakhanji Alessandra Caboni Antoine Tiberj Christophe Consejo Philipe Godignon2 Jean Camassel 1 Abstract Using high-temperature annealing conditions with a graphite cap covering the C-face of both on axis and 8 off-axis 4H-SiC samples large and homogeneous single epitaxial graphene layers have been grown. Raman spectroscopy shows evidence of the almost free-standing character of these monolayer graphene sheets which was confirmed by magneto-transport measurements. On the best samples we find a moderate p-type doping a high-carrier mobility and resolve the half-integer quantum Hall effect typical of high-quality graphene samples. A rough estimation of the density of states is given from temperature measurements. Introduction It is now widely accepted that graphene-based devices are promising candidates to complement silicon in the future generations of high-frequency microelectronic devices. To this end the most favourable technique to produce graphene for industrial scale applications seems to be epitaxial graphene EG growth. This can be done by chemical vapour deposition on a metal 1 2 or by heating a SiC wafer up to the graphitisation temperature 3-6 . In the first case the disadvantage is the need to transfer the graphene film on an insulating wafer. In the second case the SiC wafer plays the role of the insulating substrate without any need for further manipulation. Of course to be suitable for the microelectronics industry these EG layers must be continuous and homogeneous at the full wafer scale or at least on surfaces large enough to process devices. On the Si-face of 6H or 4H SiC substrates graphitisation at high .

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.