TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: " Relationship between structural changes, hydrogen content and annealing in stacks of ultrathin Si/Ge amorphous layers"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: Relationship between structural changes, hydrogen content and annealing in stacks of ultrathin Si/Ge amorphous layers | Frigeri et al. Nanoscale Research Letters 2011 6 189 http content 6 1 189 o Nanoscale Research Letters a SpringerOpen Journal NANO EXPRESS Open Access Relationship between structural changes hydrogen content and annealing in stacks of ultrathin Si Ge amorphous layers 1 2 2 3 2 4 1 Cesare Frigeri Miklós Serényi Nguyen Quoc Khánh Attila Csik Ferenc Riesz Zoltán Erdélyi Lucia Nasi Dezso László Beke4 Hans-Gerd Boyen5 Abstract Hydrogenated multilayers MLs of a-Si a-Ge have been analysed to establish the reasons of H release during annealing that has been seen to bring about structural modifications even up to well-detectable surface degradation. Analyses carried out on single layers of a-Si and a-Ge show that H is released from its bond to the host lattice atom and that it escapes from the layer much more efficiently in a-Ge than in a-Si because of the smaller binding energy of the H-Ge bond and probably of a greater weakness of the Ge lattice. This should support the previous hypothesis that the structural degradation of a-Si a-Ge MLs primary starts with the formation of H bubbles in the Ge layers. Introduction Hydrogenated a-Si and a-Ge layers are key materials for employment in nano structures used . in the technology of multi-junction solar cells as a-Ge acts as the low-band gap absorber while a-Si acts as the high-band gap one thus allowing a better exploitation of the solar spectrum and the achievement of higher efficiencies 1 . However the a-SiGe alloy is now the material of choice as the low-band gap absorber 2-4 . It allows a higher degree of freedom as regards the choice of the band gap as the latter one can be tailored over some range by changing the Si Ge ratio 2 4 . The a-SiGe alloy can be realized from a sequence of thin a-Si and a-Ge layers by intermixing them 1 5 6 which is obtained by heat treatments. The latter treatments are often also used for activating dopants. Previous studies have shown that the hydrogen content and .

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.