TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: " Origins of 1/f noise in nanostructure inclusion polymorphous silicon films"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: Origins of 1/f noise in nanostructure inclusion polymorphous silicon films | Li et al. Nanoscale Research Letters 2011 6 281 http content 6 1 281 o Nanoscale Research Letters a SpringerOpen Journal NANO EXPRESS Open Access Origins of 1 f noise in nanostructure inclusion polymorphous silicon films 1 1 2 3 2 1 Shibin Li Yadong Jiang Zhiming Wu Jiang Wu Zhihua Ying Zhiming Wang Wei Li and Gregory Salamo 1 2 Abstract In this article we report that the origins of 1 f noise in pm-Si H film resistors are inhomogeneity and defective structure. The results obtained are consistent with Hooge s formula where the noise parameter aH is independent of doping ratio. The 1 f noise power spectral density and noise parameter aH are proportional to the squared value of temperature coefficient of resistance TCR . The resistivity and TCR of pm-Si H film resistor were obtained through linear current-voltage measurement. The 1 f noise measured by a custom-built noise spectroscopy system shows that the power spectral density is a function of both doping ratio and temperature. Introduction Nanostructure semiconductor has been the focus of intense interest in recent years due to their extensive device application 1-6 . It is well known that hydrogenated polymorphous silicon is a nanostructure inclusion material 7-9 . Hydrogenated silicon films commonly exhibit high noise at low frequency f . This noise has a spectral power density of the type Sf 1 fa where a is known as 1 f noise. However lower noise materials are important for high-performance semiconductor devices. 1 f noise of amorphous and polycrystalline silicon has captured the attention of researchers in the field of electronics and physics for several decades 10 . Polymorphous silicon film is generally prepared by operating a strong hydrogen-diluted silane plasma source at high pressure and power density 11 . Many efforts have been made concerning the growth process microstructure transport and optoelectronic properties of pm-Si H films 12 . The results indicate that pm-Si H .

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.