TAILIEUCHUNG - báo cáo hóa học: " Fabrication of flexible UV nanoimprint mold with fluorinated polymer-coated PET film"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: Fabrication of flexible UV nanoimprint mold with fluorinated polymer-coated PET film | Shin et al. Nanoscale Research Letters 2011 6 458 http content 6 1 458 o Nanoscale Research Letters a SpringerOpen Journal NANO EXPRESS Open Access Fabrication of flexible UV nanoimprint mold with fluorinated polymer-coated PET film Ju-Hyeon Shin1 Seong-Hwan Lee1 Kyeong-Jae Byeon1 Kang-Soo Han1 Heon Lee1 and Kentaro Tsunozaki2 Abstract UV curing nanoimprint lithography is one of the most promising techniques for the fabrication of micro- to nanosized patterns on various substrates with high throughput and a low production cost. The UV nanoimprint process requires a transparent template with micro- to nano-sized surface protrusions having a low surface energy and good flexibility. Therefore the development of low-cost transparent and flexible templates is essential. In this study a flexible polyethylene terephthalate PET film coated with a fluorinated polymer material was used as an imprinting mold. Micro- and nano-sized surface protrusion patterns were formed on the fluorinated polymer layer by the hot embossing process from a Si master template. Then the replicated pattern of the fluorinated polymer coated on the flexible PET film was used as a template for the UV nanoimprint process without any anti-stiction coating process. In this way the micro- to nano-sized patterns of the original master Si template were replicated on various substrates including a flat Si substrate and curved acryl substrate with high fidelity using UV nanoimprint lithography. Introduction In order to form micro- to nano-sized patterns various lithographic technologies have been used such as DUV photolithography 1 e-beam lithography 2 3 X-ray lithography 4 5 laser holographic lithography 6 nanosphere lithography 7 scanning probe microscopy lithography 8 and so on. Except for DUV photolithography these conventional lithography technologies require either a complicated patterning system with a high process cost or offer limited throughput and thus are not suitable for

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.