TAILIEUCHUNG - Micro Electro Mechanical System Design - James J. Allen Part 3

Tham khảo tài liệu 'micro electro mechanical system design - james j. allen part 3', kỹ thuật - công nghệ, cơ khí - chế tạo máy phục vụ nhu cầu học tập, nghiên cứu và làm việc hiệu quả | 40 Micro Electro Mechanical System Design FIGURE Directional etching of crystalline silicon. TABLE Common Crystalline Silicon Etchant Selectivity and Etch Rates Etchant Etch rate 18HF 4HNO3 3Si 2H2SiF6 4NO 8H2O Si H2O2 2KOH K2Sìo3 2H2 Ethylene diamine pyrocatechol EDP Tetramethylammonium hydroxide TMAH Nonselective 100 gm min 111 gm min SiO2 gm min SiN4 not etched 100 gm min 111 gm min SiO2 gm min SiN4 gm min 100 gm min 111 gm min SiO2 gm min SiN4 gm min Easy to start and stop the etch process Repeatable etch process Anisotropic etches Few particulates Plasma etching includes a large variety of etch processes and associated chemistries that involve varying amounts of physical and chemical attack. The plasma provides a flux of ions radicals electrons and neutral particles to the surface to be etched. Ions produce physical and chemical attack of the surface 2005 by Taylor Francis Group LLC Fabrication Processes 41 B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B MUUUUUUUUUUU Single Crystal Silicon a. Implant Boron in Single Crystal Silicon wafer b. Deposit and Pattern Silicon Dioxide Etch Mask B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B c. KOH etch FIGURE Boron-doped silicon used to form features or an etch stop. and the radicals contribute to chemical attack. The sequence of events that occur in a plasma etch chamber Figure are listed below Plasma breaks down the feed gases into chemically reactive species. Reactive species diffuse to the wafer surface and are adsorbed. Surface diffusion of reactive species takes place until they chemically react. Reaction product desorption occurs. Reaction products diffuse away from the surface. Reaction products are transported out of the chamber The details and types of etch chemistries involved in plasma etching are varied and quite complex. This topic is too voluminous to be discussed in detail here but a number of excellent references on

TỪ KHÓA LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.