TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: " A Novel Self-aligned and Maskless Process for Formation of Highly Uniform Arrays of Nanoholes and Nanopillars"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: A Novel Self-aligned and Maskless Process for Formation of Highly Uniform Arrays of Nanoholes and Nanopillars | Nanoscale Res Lett 2008 3 123-127 DOI S11671-008-9124-6 NANO EXPRESS A Novel Self-aligned and Maskless Process for Formation of Highly Uniform Arrays of Nanoholes and Nanopillars Wei Wu Dibyendu Dey Omer G. Memis Alex Katsnelson Hooman Mohseni Received 3 January 2008 Accepted 14 February 2008 Published online 4 March 2008 to the authors 2008 Abstract Fabrication of a large area of periodic structures with deep sub-wavelength features is required in many applications such as solar cells photonic crystals and artificial kidneys. We present a low-cost and high-throughput process for realization of 2D arrays of deep sub-wavelength features using a self-assembled monolayer of hexagonally close packed HCP silica and polystyrene microspheres. This method utilizes the microspheres as super-lenses to fabricate nanohole and pillar arrays over large areas on conventional positive and negative photoresist and with a high aspect ratio. The period and diameter of the holes and pillars formed with this technique can be controlled precisely and independently. We demonstrate that the method can produce HCP arrays of hole of sub-250 nm size using a conventional photolithography system with a broadband UV source centered at 400 nm. We also present our 3D FDTD modeling which shows a good agreement with the experimental results. Keywords Microspheres Lithography Nanoholes Nanopillars Introduction With nanotechnology becoming widely used there is an increasing demand for rapid parallel fabrication strategies for nanoholes and nanopillars. Some applications that W. Wu D. Dey O. G. Memis A. Katsnelson H. Mohseni El EECS Department Northwestern University 2145 Sheridan Rd Evanston IL 60208 USA e-mail hmohseni@ require repetitive uniform nanoholes and nanopillars over large area are photonic crystals 1 memory devices 2 nanofiltration 3 solar cells 4 artificial kidneys 5 etc. Conventional photolithography techniques cannot satisfy the requirements of the .

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.