TAILIEUCHUNG - Báo cáo hóa học: " Surface Chemistry Involved in Epitaxy of Graphene on 3C-SiC(111)/Si(111)"

Tuyển tập báo cáo các nghiên cứu khoa học quốc tế ngành hóa học dành cho các bạn yêu hóa học tham khảo đề tài: Surface Chemistry Involved in Epitaxy of Graphene on 3C-SiC(111)/Si(111) | Nanoscale Res Lett 2010 5 1888-1891 DOI s11671-010-9731-x SPECIAL ISSUE ARTICLE Surface Chemistry Involved in Epitaxy of Graphene on 3C-SiC 111 Si 111 Shunsuke Abe Hiroyuki Handa Ryota Takahashi Kei Imaizumi Hirokazu Fukidome Maki Suemitsu Received 25 June 2010 Accepted 2 August 2010 Published online 14 August 2010 The Author s 2010. This article is published with open access at Abstract Surface chemistry involved in the epitaxy of graphene by sublimating Si atoms from the surface of epitaxial 3C-SiC 111 thin films on Si 111 has been studied. The change in the surface composition during graphene epitaxy is monitored by in situ temperature-programmed desorption spectroscopy using deuterium as a probe D2-TPD and complementarily by ex situ Raman and C1s core-level spectroscopies. The surface of the 3C-SiC 111 Si 111 is Si-terminated before the graphitization and it becomes C-terminated via the formation of C-rich 6ự3 X 6ự3 R30 reconstruction as the graphitization proceeds in a similar manner as the epitaxy of graphene on Si-terminated 6H-SiC 0001 proceeds. Keywords Graphene 3C-SiC 111 Si 111 Epitaxy Surface termination Introduction Graphene a single layer of sp2-bonded carbon has fabulous electronic mechanical and optical properties 1 . Graphene is thus expected to be various kinds of applications. Owing to its industrial adaptability epitaxial graphene EG formed by annealing of SiC bulk crystal is attracting recent attentions 2-4 . EG however face two S. Abe H. Handa R. Takahashi K. Imaizumi H. Fukidome M. Suemitsu Research Institute of Electrical Communication Tohoku University 2-1-1 Katahira Aoba-ku Sendai 980-8577 Japan e-mail fukidome@ M. Suemitsu CREST Japan Science and Technology Agency Tokyo 107-0075 Japan 0 Springer challenges the limited diameter of the substrate and the low cost-performance in the current price. To overcome these challenges we have been investigating the use of SiC thin films on Si substrates .

TÀI LIỆU LIÊN QUAN
TAILIEUCHUNG - Chia sẻ tài liệu không giới hạn
Địa chỉ : 444 Hoang Hoa Tham, Hanoi, Viet Nam
Website : tailieuchung.com
Email : tailieuchung20@gmail.com
Tailieuchung.com là thư viện tài liệu trực tuyến, nơi chia sẽ trao đổi hàng triệu tài liệu như luận văn đồ án, sách, giáo trình, đề thi.
Chúng tôi không chịu trách nhiệm liên quan đến các vấn đề bản quyền nội dung tài liệu được thành viên tự nguyện đăng tải lên, nếu phát hiện thấy tài liệu xấu hoặc tài liệu có bản quyền xin hãy email cho chúng tôi.
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.